日前，國家科技部火炬中心公布了企業創新積分制首批試點高新區“創新積分500”企業名單，其中位于無錫高新區的江蘇微導納米科技股份有限公司（以下簡稱“微導納米”）憑借強勁的研發能力、出色的成長潛力脫穎而出，最終入選成長期企業名單。

微導納米成立于2015年底，公司以原子層沉積（ALD）技術為核心，專注于先進微米級、納米級薄膜沉積設備的研發、生產與應用，業務涵蓋集成電路、光伏、LED、MEMS等半導體相關領域，以及新能源和柔性電子領域。短短六年多，微導納米已從一家初創企業，發展成為國家專精特新“小巨人”企業、獨角獸企業。

iTomic Hik系列原子層沉積鍍膜系統

作為國內首家成功將量產型High-k原子層沉積設備應用于28nm節點集成電路制造前道生產線的國產設備公司，微導納米的ALD設備總體表現和工藝關鍵性能參數達到國際同類水平，并已獲得客戶重復訂單認可，填補了我國在該項半導體設備上的空白。公司也是國內少數能在短期內快速反饋并協助客戶解決產線上ALD技術問題的設備廠商之一，具備承擔下一代光伏電池設備和高端先進制程半導體設備項目的技術儲備和人才基礎。在國家戰略的引導下、地方政策的支持下，微導納米將持續深化自主創新，不斷提高設備的技術水平和產品的競爭力，力爭成為世界級的智能裝備領軍企業，推動高端技術裝備的國產化、產業化。