江蘇微導納米裝備科技有限公司

iTomic MW系列批量式原子層沉積鍍膜系統采用創新的批量型（mini-batch）腔體設計，可一次處理25片12英寸晶圓，適用于成膜鍍率低，厚度要求高，以及產能要求高的關鍵工藝及應用。iTomic MW系列產品利用特有的流場設計，具有成膜速度快，占地面積小，產能高、使用成本低等優勢，為先進存儲芯片以及micro-LED顯示器、MEMS等提供定制化量產的解決方案。

1、25片12寸晶圓（兼容8寸晶圓）MW ALD系統，適用于厚膜或生長率較低的工藝需求；

2、提供優異的薄膜片內（WiW）和片間（WtW）均勻性，更好地滿足先進制程工藝需求；

3、薄膜材料：Al₂O₃、HfO₂、ZrO₂、SiO₂、Ta₂O₅、TiO₂、ZnO、TiN等；

4、與爐管型設備相比，MW ALD系列在減少顆粒度的同時大大降低了熱過程，避免芯片器件在制程中的熱損傷。